| TFYY07 |
Tunnfilmsfysik, 3,5 p
/Thin Film Physics/ |
||
|
Utbildningsområde: Naturvetenskap Ämnesgrupp: Fysik Nivå (A-D):D |
|||
|
Mål:
Kursen skall ge kunskaper om mekanismer och processer för framställning av tunna ytbeläggningar samt om egenskaper unika för dessa. Vidare ges en orientering över tillämpningar av tunna filmer inom t.ex. halvledar- och verkstadsindustrin. |
|||
| Förkunskaper: (gäller studerande antagna till program som kursen ges inom, se 'För:' ovan) TFFY70 Materiefysik, inledande kurs (alternativt: TMKM04 Konstruktionsmaterial, grundkurs eller TMKM45 Konstruktionsmaterial I) OBS! Tillträdeskrav för icke programstudenter omfattar vanligen också tillträdeskrav för programmet och ev. tröskelkrav för progression inom programmet, eller motsvarande. |
|||
| Organisation: Kursen består av föreläsningar, laborationer och studiebesök. |
|||
| Kursinnehåll: Vakuumteknik, beläggningstekniker. Tillväxt, struktur, epitaxi, interdiffusion och reaktioner hos tunna filmer. Mekaniska, elektriska och optiska egenskaper samt tillämpningar utnyttjande dessa egenskaper. Nya tillämpningar, "forskningsfronten". I kursen ingår två till tre laborationer samt ett studiebesök på ett företag som utnyttjar tunnfilmsteknik. |
|||
| Kurslitteratur: M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press, 1992, ISBN 0-12-524990-X |
|||
| Examination: | |||
| TENA LABA UPG1 |
En skriftlig tentamen. Alternativa examinationsformer (seminarium, hemtenta) kan bli aktuella om intresse finnes. Obligatoriska laborationer. Obligatoriska studiebesök i industrin. |
3 p 0,5 p 0 p |
|
Undervisningsspråk är Engelska.
Institution: IFM.
Studierektor:
Examinator: Ulf Helmersson
Ansvarig utbildningsnämnd: UNY
Engelsk kursplan
Om inget annat anges ovan gäller betygsskala enligt avsnitt a8.5 i de gemensamma bestämmelserna.
Kursplanen gäller för 2002 enligt beslut av utbildningsnämnden i november 2001.
 |
||||||
| ||||||