studiehandbok@lith   Länk till universitetets hemsida
 

Tekniska högskolan vid Linköpings universitet

Länk till universitetets hemsida
 
År : 2013
 
TFYA41 Tunnfilmsfysik, 4 p / 6 hp
/Thin Film Physics/

För:   MFYS   MPN   Y  

 

Prel. schemalagd tid: 44
Rek. självstudietid: 116

  Utbildningsområde: Naturvetenskap

Ämnesgrupp: Fysik   Nivå (A-D):D

Huvudområde: Fysik, Teknisk fysik   Nivå (G1,G2,A): A

  Mål:  IUAE-matris
Kursen ska ge kunskap om mekanismer och processer för syntes av tunna filmer och beläggningar och egenskaper därav. Inkluderat är även en översikt av industriella tillämpningar av tunna filmer och beläggningar, t.ex. för ytskydd, optik och mikroelektronik. Efter kursen studenten ska:
  • ha kunskap om hur ett vakuumsystem utformas och känner operationen principerna för dess komponenter
  • vet principen, fördelarna och nackdelarna av olika tunn film framställning teknik och metoder
  • förstå de grundläggande atomistiska mekanismer som bestämmer den tunna filmen tillväxt, såväl som effekten av processbetingelserna på tillväxt
  • vet den fysiska principen och kunna diskutera fördelar och nackdelar mellan olika metoder för analys av tunna filmer samt tunna film tillväxtprocesser
  • ha insikter i möjligheter och betydelsen av olika tunna filmer och beläggningar för en rad olika industriella tillämpningar.


  Förkunskaper: (gäller studerande antagna till program som kursen ges inom, se 'För:' ovan)
Grundläggande kunskaper i materialvetenskap, kristallografi, fasta tillståndets fysik och termodynamik

OBS! Tillträdeskrav för icke programstudenter omfattar vanligen också tillträdeskrav för programmet och ev. tröskelkrav för progression inom programmet, eller motsvarande.

  Organisation:
Kursen består av föreläsningar, laborationer och studiebesök.

  Kursinnehåll:
Vakuumteknik, tunnfilmstillväxt, epitaxi, tunn film framställning teknik och metoder, karakterisering av tunna filmer och processer, optiska och mekaniska egenskaper, simuleringar av film tillväxt.

  Kurslitteratur:
T. Michely, J. Krug, �?oIslands, Mounds and Atoms: Patterns and Processes in Crystal Growth Far from Equilibrium�?�, Springer 2003.
P. M. Martin, �?oHandbook of Deposition Technologies for Films and Coatings�?�, Elsevier 2010.
M. Ohring, �?oMaterials Science of Thin Films�?�, Academic Press 1991.


  Examination:
TENB LABA UPG1 PRA1
En skriftlig tentamen. (U,3,4,5)
Obligatoriska laborationer (U,G)
Obligatoriska studiebesök i industrin (U,G)
Studentpresentationer (U,G)
4,5 hp
0,5 hp
0,5 hp
0,5 hp
 



Undervisningsspråk är Engelska.
Institution: IFM.
Studierektor: Magnus Johansson
Examinator: Kostas Sarakinos
Länk till kurshemsida på kursgivande institution
Ansvarig programnämnd: Elektro&Fysik

Engelsk kursplan


Tekniska högskolan vid Linköpings universitet

Länk till sidans topp


Informationsansvarig: TFK , val@tfk.liu.se
Senast ändrad: 10/21/2013