studiehandbok@lith   Länk till universitetets hemsida
 

Tekniska högskolan vid Linköpings universitet

Länk till universitetets hemsida
 
År : 2010
 
TFYA41 Tunnfilmsfysik, 4 p / 6 hp
/Thin Film Physics/

För:   Fys   MFYS   MPN   Y  

 

Prel. schemalagd tid: 44
Rek. självstudietid: 116

  Utbildningsområde: Naturvetenskap

Ämnesgrupp: Fysik   Nivå (A-D):D

Huvudområde: Fysik, Teknisk fysik   Nivå (G1,G2,A): A

  Mål:
Kursen skall ge kunskaper om mekanismer och processer för framställning av tunna ytbeläggningar samt om egenskaper unika för dessa. Vidare ges en orientering över tillämpningar av tunna filmer inom t.ex. halvledar- och verkstadsindustrin. Studenten ska efter avslutad kurs:
  • känna till hur vakuumsystem är uppbyggda och känna till olika vakuumkomponenters (främst pumpar) egenskaper
  • kunna utföra enklare design av vakuumsystem
  • kunna för och nackdelar med olika filmdeponeringsmetoder
  • känna till kärnbildning och tillväxtmoders inverkan på ytbeläggningars mikrostruktur
  • kunna diskutera för och nackdelar med olika metoder för analys av ytbeläggningar
  • ha insikt i möjligheter och vikten av olika ytbeläggningar inom olika industriella områden


  Förkunskaper: (gäller studerande antagna till program som kursen ges inom, se 'För:' ovan)
Motsvarande grundkurser i materiefysik, materialfysik eller konstruktionsmaterial. Gärna kunskap om kristallstrukturer och defekter.

OBS! Tillträdeskrav för icke programstudenter omfattar vanligen också tillträdeskrav för programmet och ev. tröskelkrav för progression inom programmet, eller motsvarande.

  Organisation:
Kursen består av föreläsningar, laborationer och studiebesök.

  Kursinnehåll:
Vakuumteknik, beläggningstekniker. Ttillväxt, struktur, epitaxi, interdiffusion och reaktioner hos tunna filmer. Mekaniska, elektriska och optiska egenskaper samt tillämpningar utnyttjande dessa egenskaper. Nya tillämpningar, "forskningsfronten". I kursen ingår två till tre laborationer samt ett studiebesök på ett företag som utnyttjar tunnfilmsteknik.

  Kurslitteratur:
M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, Second edition, Academic Press, 2002, ISBN 0-12-524975-6

  Examination:
TENA
LABA
UPG1
En skriftlig tentamen. (U,3,4,5)
Obligatoriska laborationer (U,G)
Obligatoriska studiebesök i industrin (U,G)
5 hp
0,5 hp
0,5 hp
 
Alternativa examinationsformer (seminarium, hemtenta) kan bli aktuella om intresse finnes.



Undervisningsspråk är Engelska.
Institution: IFM.
Studierektor: Leif Johansson
Examinator: Ulf Helmersson
Länk till kurshemsida på kursgivande institution
Ansvarig programnämnd: Elektro&Fysik

Engelsk kursplan

Kursen bedrivs på ett sådant sätt att både mäns och kvinnors erfarenhet och kunskaper synliggörs och utvecklas.

Planering och genomförande av kurs skall utgå från kursplanens formuleringar. Den kursvärdering som ingår i kursen skall därför genomföras med kursplanen som utgångspunkt.

Om inget annat anges ovan gäller betygsskala enligt avsnitt a8.5 i de gemensamma bestämmelserna.

Kursplanen gäller för 2010 enligt beslut av ansvarig programnämnd/fakultetstyrelse.

Tekniska högskolan vid Linköpings universitet

Länk till sidans topp


Informationsansvarig: TFK , val@tfk.liu.se
Senast ändrad: 04/29/2010